MOSFET는 MOS와 달리 Drain 전압을 가해줌으로써 Channel potential의 분포가 발생한다.
따라서 MOS의 inversion charge식인 $Q_{inv} = -C_{ox}(V_{T} - V_{T}) [C/cm^{2}]$에서 Channel Potential 이 포함된 값으로 수식 전개를 시켜주면 MOSFET의 inversion charge식이 나오게 된다.
$Q_{inv} = -C_{ox}(V_{GS} - V_{C}(x) - V_{T}) [C/cm^{2}]$ (MOSFET의 inversion charge)
이렇게 얻은 $Q_{inv}$을 통해 이상적인 I - V model을 살펴보자.
우선 몇 가지 상황을 가정하고 넘어가 보면,
1) $V_{G} > V_{T}$인 Channel 형성 상태이다.
2) Channel 내의 carrier mobility는 모두 일정한 값을 유지한다. (실제로는 아니지만 식의 단순화를 위해 가정한 사항)
3) Channel 내의 E-field는 일정하다. = gradual channel approximation
E-field는 Channel potential을 한번 미분해서 나온 값인 기울기 값이다. 따라서 기울기 값이 일정함을 가정하는 이야기다. 이런 가정은 유도하고자 하는 MOSFET의 채널 길이가 매우 길기에 구간별 기울기가 크게 변하지 않기에 유효하다고 볼 수 있다.
4) Channel 내에서의 전류는 drift로만 가능하다. diffusion으로도 가능하지만 이것까지 고려하면 복잡해지기에 우선은 무시한다.
5) Gate Oxide를 통한 누설전류가 없다. (마찬가지로 원래는 누설전류가 존재하지만 일단 무시한다.)
이렇게 가정한 5가지를 이용해서 이전 학기에 배운 전류 밀도 공식을 활용해준다.
우선 흐르는 전류값을 구하기 위해 Z & Y에 대해서 적분을 해준다.
Z = Width를 나타내고, Y의 적분은 Channel에 있는 전자에 의한 전하밀도를 뜻한다.
적분을 통해 나온 값을 대입시켜주어 식을 정리하면 위와 같이 $I_{x} = -W\mu_{n} C_{ox} (V_{GS} - V_{T} - V_{C}(x))(-\frac {dV_{C}(x)}{dx})$로 나타난다.
여기서 dx를 좌변으로 이동시켜 $I_{x} dx = W\mu_{n} C_{ox} (V_{GS} - V_{T} - V_{C}(x))(dV_{C}(x))$ x에 대한 미방 = $V_{C}$에 대한 미방으로 만들고 각각의 변수에 대해 적분을 하면,
다음과 같은 식이 나온다.
위의 식에서 적분을 풀어 전개.
좌항을 I 에 대해서만 나타내기 위해 양변에 L을 나누어준다.
이렇게 되면 최종적으로 Drain current에 대한 식이 나타난다.
이는 $V_{DS} < V_{GS} - V_{T}$ 인 linear region에서 만족하는 식이다.
그렇다면 pinch - off인 $V_{DS} = V_{GS} - V_{T}$ 에서는 식이 어떻게 전개될까?
위의 식에 $V_{DS}$를 대입하면
$V_{DS}$에 대한 항이 사라진 것을 통해서 해당 영역에서는 $V_{GS}$에 대해서만 전류값이 결정된다는 것을 유추할 수 있다.
마찬가지로 saturation region에서도 pinch - off 이후로는 전류값이 증가하지 않기에 전류 식이 동일하게 유지된다.
이를 그래프로서 확인해보면 아래와 같다.
점선 = pinch - off
따라서 점선을 기준으로 왼쪽은 linear 영역, 오른쪽은 saturation 영역이다.
다음으로는 Gate 전압 변경에 따른 전류값 변화를 살펴보도록 하겠다.
$V_{DS1}$ = 낮은 전압 , $V_{DS2}$ = 높은 전압
$V_{DS} < V_{GS} - V_{T}$ = linear
$V_{DS} > V_{GS} - V_{T}$ = saturation
- Saturation mode에서는 $V_{DS}$가 전류에 영향을 주지 않기에 $V_{DS}$값이 무엇이든 동일한 $I_{D}$값을 갖는다. 그렇기에 동일한 곡선 그래프를 띠는 것을 확인 가능하다.
- linear mode에서는 같은 전압의 경우 $V_{DS}$의 값이 더 높을수록 전류값도 더 크게 나타난다.
따라서 MOSFET의 중요한 동작 영역인 linear & saturation 은 $V_{DS}$ 전압이 $V_{GS} - V_{T}$보다 크거나 작냐에 따라 결정이 된다.
마지막으로, Transconductance ($g_m$)을 살펴보자.
$g_m$ 은 게이트 전압 변동에 따른 drain 전류 변화를 나타내는 척도로, $g_{m} = \frac {\partial I_{controlled}}{\partial V_{control}} = \frac {\partial I_{D}}{\partial V_{GS}}$이다.
이를 구하기 위해서는 위에서 구했던 식에서 $I_{D}$를 $V_{GS}$에 대해 미분을 하면 된다.
- linear
다음 식에서 미분을 해주면 $\mu_n C_{ox}(\frac {W}{L})V_{DS}$가 남게 된다.
이를 통해 $g_{m}$ 값은 $V_{GS}$에 따른 변화가 없다는 것을 유추할 수 있다.
- saturation
제곱의 값을 갖는 saturation에서의 전류값도 미분을 통해
다음과 같은 1차 선형식으로 정리가 된다.
그래프에 그려보면,
1. $V_{T}$이전까지는 값을 지니지 않는다.
2. saturation 영역에서는 1차 선형식 형태로 상승한다.
3. linear영역에 도달하면 일정한 값을 지니는 그림이 그려진다.
'공부 > 기초반도체' 카테고리의 다른 글
11.1.1 문턱아래 전도 (0) | 2022.01.30 |
---|---|
10.3.5 기판 바이어스 효과 (0) | 2022.01.29 |
10.3.2 전류 - 전압 관계 - 개념 (0) | 2022.01.26 |
10.3.1 MOSFET 구조 (0) | 2022.01.25 |
10.2.3 MOS 비이상적 효과들 (0) | 2022.01.24 |